Исследование влияния временного повышения плотности тока

Исследование влияния временного повышения плотности токаПримененный метод расчета (по двум из десяти точек) в данном случае допустим вследствие существования пропорциональности между изменением толщины слоя хрома и межэлектродного расстояния. В общем случае этот метод неприемлем, хотя он и рекомендуется, без указания на то, что используемый им критерий равномерности связан не со всем ходом поляризационных кривых в диапазоне принятых плотностей тока, а только с двумя крайними точками.

В результате экспериментального исследования установлено, что эффект выравнивания хромированной поверхности тем больше, чем меньше рассеивающая способность на аноде, что важными условиями, понижающими рассеивающую способность на аноде и способствующими выравниванию (электролитической доводке) хромированной поверхности, являются временное резкое повышение анодной плотности тока (толчок тока), изменение межэлектродного расстояния (уменьшение или увеличение в зависимости от сосуда и формы электродов) и понижение температуры хромового электролита.

Исследование влияния временного повышения плотности тока (толчок тока), изменения межэлектродного расстояния и понижения температуры электролита показало, что эти условия являются регуляторами распределения тока на хромированном аноде.

Действие этих регуляторов при выравнивании хромированных поверхностей заключается в понижении рассеивающей способности на аноде, ухудшении равномерности анодного растворения и улучшении таким образом выравнивания хромирован ной поверхности. Вследствие кратковременности толчка тока и запаздывания концентрационной поляризации на аноде она не может корректировать первичного распределения тока, поэтому равномерность анодного растворения ухудшается и это способствует выравниванию поверхности полученного покрытия.

Определенное выравнивающее действие толчка тока и других условий подтверждается опытом массового производства.

Читайте так же:

Комментарии запрещены.